顶点光电子商城2025年2月25日消息：英特尔在加利福尼亚州圣何塞举行的会议上宣布，首批两台ASML High-NA EUV（极紫外光刻）设备已在其晶圆厂投产。这两台设备的投产标志着英特尔在先进制程技术方面的重要进展，有助于其重返技术领先地位。High-NA EUV设备具有更高的分辨率和成像质量，能够制造更小、更快的计算芯片，满足市场对高性能芯片的需求。

        与之前的EUV设备相比，High-NA EUV设备的可靠性大约是上一代的两倍。这意味着英特尔能够以更稳定的速度生产晶圆，提高生产效率。High-NA EUV设备使用光束将特征打印到芯片上，能够以更少的曝光次数完成与早期设备相同的工作。这有助于节省时间和成本，提高整体制造效率。据报道，High-NA EUV设备的分辨率为8nm，可以实现比现有EUV光刻机小1.7倍物理特征的微缩，单次曝光的晶体管密度提高2.9倍。这将进一步推动芯片制造技术的进步。

          在一个季度内，英特尔利用这两台High-NA EUV设备生产了3万片晶圆。这些晶圆可以生产数千个计算芯片，满足市场需求。英特尔计划使用High-NA EUV设备来协助开发其所谓的18A制程技术。该技术预计将于今年稍晚时随着新一代PC芯片的量产而推出。此外，英特尔还计划在下一代的14A制程中全面导入High-NA EUV设备来进行生产。尽管尚未公布具体的量产时间，但这一计划显示了英特尔对High-NA EUV设备的信心和期待。

         尽管High-NA EUV设备具有诸多优势，但其高昂的成本也引发了争议。据报道，每台High-NA EUV设备的售价高达约3.5亿美元（约合人民币25.4亿元），远高于ASML标准EUV系列的售价。一些专家表示，英特尔抢用High-NA EUV设备可能会面临亏损扩大的窘境。然而，英特尔首席执行官帕特·基辛格认为，在采用EUV设备后，英特尔在价格、性能方面都很有竞争力。

          综上所述，英特尔首批两台High-NA EUV设备的投产标志着其在先进制程技术方面的重要进展。尽管面临高昂的成本挑战，但英特尔对High-NA EUV设备的信心和期待仍然坚定。未来，随着High-NA EUV设备在更多制程技术中的应用和推广，英特尔有望在全球芯片制造市场中占据更加重要的地位。