顶点光电子商城2024年12月23日消息：近日，日本先进逻辑半导体制造商Rapidus宣布，其购入的首台ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在位于北海道千岁市的IIM-1晶圆厂完成交付并启动安装。这一事件标志着日本首次引入用于大规模生产尖端半导体的EUV（极紫外）光刻系统。

         NXE:3800E是ASML EXE系列0.33（Low）NA EUV光刻机的最新型号，与0.55（High）NA EXE平台共享部分组件，晶圆吞吐量较前款NXE:3600D提升37.5%。

          Rapidus成为日本首家拥有EUV光刻机的公司，为日本半导体产业注入新的活力。此次引入的EUV光刻机能够满足Rapidus首代量产工艺2nm的制造需求，有助于提升日本在国际先进半导体制造领域的竞争力。Rapidus还计划在IIM-1晶圆厂安装一系列配套先进半导体制造设备以及全自动材料处理系统，旨在实现2nm制程GAA（全环绕栅极）结构半导体的生产，这将进一步推动日本半导体产业的发展。

          Rapidus已经确认IIM-1晶圆厂将于2025年4月启动试产，且该晶圆厂所有半导体制造设备均将采用“单晶圆工艺”Rapidus将在该模式下构建名为RUMS（快速和统一制造服务）的新型半导体代工模式。

          如果Rapidus试产2nm芯片顺利，还计划在接下来的第二间工厂内采用1.4nm工艺，届时预计将加大EUV光刻机的购买量。这将有助于Rapidus在未来几年内保持在半导体制造领域的领先地位。

         在光刻机交付安装当天，众多重要人物出席了在北海道新千岁机场举行的纪念仪式，包括Rapidus首席执行官、日本政府代表、北海道及千岁市地方政府代表、ASML高管以及荷兰驻日本大使等。Rapidus总裁兼首席执行官表示：“我们非常高兴能够迎来这一里程碑式的时刻。通过引入ASML最先进的EUV技术，我们将为客户提供更高性能、更小尺寸的半导体解决方案。”

          综上所述，日本成功引入首台ASML EUV光刻机对于提升日本半导体产业的竞争力和技术水平具有重要意义。随着Rapidus在IIM-1晶圆厂的试产和后续扩产计划的推进，日本有望在全球半导体市场中占据更加重要的地位。