顶点光电子商城2024年6月6日消息：近日，全球领先的半导体制造设备供应商荷兰ASML公司，宣布与比利时芯片研究巨头Imec共同开设了一个测试实验室，专注于其最新的High NA EUV光刻设备。

         实验室斥资3.5亿欧元，经过多年建设完成。核心设备包括最先进的光刻机TWINSCAN EXE:5000，这是一款专为High NA EUV设计的曝光设备。实验室还配备了一系列配套的处理和计量工具，以支持完整的芯片制造流程。

            新High NA EUV设备可将分辨率提高60%，有望带来更小、更快的新一代芯片。ASML预计客户将在2025至2026年开始使用这款设备进行商业制造。

          目前，ASML已经接到了十几个High NA EUV设备的订单，显示了市场对这一顶尖技术的强劲需求。

           ASML是曝光设备市场的领导者，目前只有台积电、三星、英特尔及SK海力士能使用其当前一代的EUV设备进行生产。英特尔官方表示，很高兴看到这一愿景得以实现，并共同加速下一代芯片的诞生。英特尔计划在其14A制程工艺中使用High NA EUV设备。

          该实验室的启用被视为大批量生产High NA EUV设备的一个里程碑，预计将在2025至2026年间实现广泛应用。分析人士认为，High NA EUV技术的成熟和普及将对半导体产业产生深远影响，包括提高生产效率和降低制造成本，进一步推动半导体产业的竞争和创新。