顶点光电子商城2022年11月23日消息：近日，盛美上海通过线上会议举行了科创板上市周年庆暨新品发布会，发布了前道涂胶显影设备Ultra LITH。

        Ultra LITH设备采用自主全球专利保护的全新系统结构设计，拥有稳定的电控架构及强大的软件系统，且具可扩张性，可以支持300 WPH及未来下一代高产出光刻机400 WPH的更高产出需求；搭载高速稳定的机械手系统，多机械手协同配合，可实现晶圆传输路径的优化，提高传输效率。

         该设备用于前道300mm晶圆的涂胶显影，具有4个12英寸装载端口，8个涂胶腔和8个显影腔，可进一步扩展到12个涂胶腔和12个显影腔，适用于i-line、KrF和ArF等多种材料的涂胶显影工艺。设备内部气流分布进行了优化处理，可减少颗粒污染，强大的清洗技术亦可支持未来浸没式光刻机对硅片背面的颗粒清洗需求；此外，分区控制的高精度热板由公司自主研发，已达到业界先进水平。且该设备适配性强，支持主流的光刻机接口。

         盛美半导体设备(上海)股份有限公司于2005年05月17日成立。法定代表人王晖，公司经营范围包括：设计、生产、加工电子专用设备及其零部件，销售公司自产产品，并提供售后技术服务和咨询服务等。在做企业的过程中，盛美上海始终坚持技术差异化竞争的策略，各项技术都在全球进行了专利布局。多年来，盛美上海申请了960项以上发明专利，授权专利超过400项，也获得了上海专利示范企业的荣誉。