顶点光电子商城2024年7月9日消息：近日，据Trendforce等机构的报道，Hyper-NA EUV光刻机的价格预计将达到惊人的7.24亿美元，甚至可能会更高。这一价格相比目前已有的EUV光刻机（约1.81亿美元）和High-NA EUV光刻机（约3.8亿美元）有显著的提升，几乎是在High-NA EUV光刻机基础上的翻倍。

          Hyper-NA EUV光刻机作为下一代技术，其研发成本、制造成本以及技术复杂度都远高于前代产品。这些因素共同导致了其高昂的定价。

          面对Hyper-NA EUV光刻机的高昂价格，台积电、三星和英特尔等芯片制造商都表现出了犹豫不决的态度。高昂的采购成本让这些企业需要重新评估其投资策略和产能规划。

          为了应对高昂的新设备采购成本，一些企业选择通过升级现有设备、采用多重曝光等技术手段来延长现有设备的使用寿命并提升产能。例如，台积电就计划通过升级现有EUV光刻机来减轻对新设备的依赖。

          Hyper-NA EUV光刻机具有更高的数值孔径（NA），能够实现更高分辨率的图案化及更小的晶体管特征。这对于推动半导体工艺向更小的制程节点发展具有重要意义。

         随着半导体工艺的不断进步和市场需求的持续增长，Hyper-NA EUV光刻机在未来几年内有望成为半导体制造领域的核心设备之一。然而，其高昂的价格和复杂的制造工艺也将对其市场推广和普及带来一定的挑战。