顶点光电子商城2022年4月20日消息：4月20日，拓荆科技在上海证券交易所科创板上市，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，公司证券代码为688072，发行价格71.88元/股。

        拓荆科技股份成立于2010年4月，公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气想乘积设备、原子层沉积设备和次常压化学气相沉积设备三个产品系列，产品主要应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等高端技术领域。

        拓荆科技大涨35.60%，报97.47元，总市值123.3亿元。 

         公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。

        拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，公司现有五名国家级海外高层次专家，具备高科技研发实力及管理经验。

        目前拓荆科技的产品已广泛应用于国内的28/14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128层3D NAND FLASH晶圆制造产线，并开始了10nm及以下制程产品验证测试。

        拓荆科技产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、重庆万国、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线，打破国际厂商对国内市场的垄断。累计发货超150套机台。

        报告期内，公司在研产品已发往某国际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发。2018年9月，拓荆公司自主研制的国内首台12英寸PEALD设备，设备各项性能指标均满足要求，且达到或超过了国际同类产品的先进水平，是我国在实现半导体高端装备国产化进程中的又一重大突破。

        2018年至2021年第一季度，拓荆科技实现营业收入分别为7,064.40 万元、 25,125.15 万元、43,562.77 万元和 5,774.10 万元；同期净利润分别为-10,322.29万元、-1,936.64万元、-1,169.99万元及-1,058.92万元，扣除非经常性损益后归属于母公司所有者的净利润分别为-14,993.05万元、-6,246.63万元、-5,711.62万元和-2,400.90万元。

        2018年拓荆营业收入仅为7000万左右，而到2021年时，录得营收7.58亿，三年收入增长十倍有余，呈现出较好的成长性。

        报道提行业技术高、进步快，每更新一代半导体工艺制程，则需新一代更为先进的制程设备。

        报告期内，拓荆科技研发费用分别为10,797.31万元、7,431.87万元、12,278.18万元和2,714.86万元，占各期营业收入的比例为152.84%、29.58%、28.19%和47.02%。

        其指出，2018年度研发投入占营业收入比例超过100%系营业收入较小所致。

        其净利润出现亏损，除了研发投入外，其ALD、SACVD设备贡献营收较少有很大的关联，报告期内，拓荆科技PECVD销售收入占发行人主营业务收入比例较高，分别为77.98%、100.00%、97.55%和100.00%。HJT管式PECVD在中试线上量产定型的工艺调试在按计划进行，并且还在升级优化。目前，公司ALD、SACVD均处于产品发往不同客户端进行产线验证的市场开拓阶段，公司升级SACVD设备，研发12英寸满足28nm一下制程工艺需要的SACVD设备。形成批量销售需经过不同客户的验证，周期存在不确定性。市场对ALD、SACVD设备的需求增长较小。